计算光刻
的有关信息介绍如下:光刻工艺过程可以用光学和化学模型,借助数学公式来描述。光照射在掩模上发生衍射,衍射级被投影透镜收集并会聚在光刻胶表面,这一成像过程是一个光学过程;投影在光刻胶上的图像激发光化学反应,烘烤后导致光刻胶局部可溶于显影液,这是化学过程。计算光刻就是使用计算机来模拟、仿真这些光学和化学过程,从理论上探索增大光刻分辨率和工艺窗口的途径,指导工艺参数的优化 。
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光刻工艺过程可以用光学和化学模型,借助数学公式来描述。光照射在掩模上发生衍射,衍射级被投影透镜收集并会聚在光刻胶表面,这一成像过程是一个光学过程;投影在光刻胶上的图像激发光化学反应,烘烤后导致光刻胶局部可溶于显影液,这是化学过程。计算光刻就是使用计算机来模拟、仿真这些光学和化学过程,从理论上探索增大光刻分辨率和工艺窗口的途径,指导工艺参数的优化 。
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