紫外曝光机
的有关信息介绍如下:紫外曝光机,也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是印刷线路板(PCB)制作工艺中的重要设备。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
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紫外曝光机,也称光刻机、掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是印刷线路板(PCB)制作工艺中的重要设备。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。其主要性能指标有:支持基片的尺寸范围,分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
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