电解抛光是什么原理？

电解抛光是什么原理？

电解抛光原理

电解抛光是通过对电流密度，溶液粘度几温度的控制，使金属在电解液中选择性溶解（低凹处进入钝

态而凸起部位活性溶解）结合溶液光亮剂和阳极极化作用，达到电化学整平抛光的目的。

电解抛光过程简介

1.首先采用机械抛光打磨设备及工件表面的氧化皮和

各种表面缺陷，使被处理表面初步达到一定的粗糙度。

2.再用电解的方式进一步提高被处理表面的光洁度。

机械抛光是宏观消除表面的氧化皮及各种缺陷，而电解

抛光是一个微观整平的过程，进一步提高表面的物化性能。

电解抛光的优点

1.由于电解抛光具有电化学整平及光亮作用，表面粗糙度值可达Ra0.05（▽12），反射率可达

90%以上。因此，可以 防止设备表面挂料、粘壁等现象。

2.电解抛光为阳极非均匀溶解过程，且在钝化区进行，因此金属表面可达到良好的钝化效果，且在

表面形成均匀致密 的铬盐膜，大大提高了抗环境腐蚀性能。

3.电解抛光消除了表面应力集中现象，同时消除了金属表面因研磨而行成的拜尔培层，提高了设备

及工件表面的物化性能。

电解抛光适用范围

由于电解抛光成本高，技术含量高，操作难度大且不易形成自动化，故只用于一些对表面性能要求高

的设备及工件（如：生化制药设备、化工聚合反应釜、航空配件、食品、化妆品设备等）。